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标准号：GB/T 43894.1-2024

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中文标准名称：半导体晶片近边缘几何形态评价 第1部分：高度径向二阶导数法（ZDD）

英文标准名称：Practice for determining semiconductor wafer near-edge geometry—Part 1:Measured height data array using a curvature metric（ZDD）
标准状态：即将实施 推荐性

基础信息

  • 中国标准分类号（CCS）：H21
  • 国际标准分类号（ICS）：77.040
  • 标准类别：方法
  • 执行单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会
  • 发布日期：2024-04-25
  • 实施日期：2024-11-01
  • 主管部门：国家标准化管理委员会
  • 归口部门：国家标准化管理委员会

其它信息

  • 起草单位：主要起草单位 山东有研半导体材料有限公司 、浙江丽水中欣晶圆半导体科技有限公司 、金瑞泓微电子（嘉兴）有限公司 、中环领先半导体材料有限公司 、广东天域半导体股份有限公司 、鸿星科技（集团）股份有限公司 。
  • 温馨提示：本系统所提供的电子文本仅供参考，请以正式标准出版物为准。

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