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标准号：GB/T 24578-2009

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中文标准名称：硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法

英文标准名称：Test method for measuring surface metal contamination on silicon wafers by total reflection X-ray fluorescence spectroscopy
标准状态：废止 推荐性

基础信息

  • 中国标准分类号（CCS）：H80
  • 国际标准分类号（ICS）：29.045
  • 标准类别：方法
  • 执行单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会
  • 发布日期：2009-10-30
  • 实施日期：2010-06-01
  • 主管部门：国家标准化管理委员会
  • 归口部门：国家标准化管理委员会

其它信息

  • 起草单位：主要起草单位 有研半导体材料股份有限公司 、万向硅峰电子有限公司 。
  • 温馨提示：本系统所提供的电子文本仅供参考，请以正式标准出版物为准。

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