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标准号：GB/T 40279-2021

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中文标准名称：硅片表面薄膜厚度的测试 光学反射法

英文标准名称：Test method for thickness of films on silicon wafer surface—Optical reflection method
标准状态：现行 推荐性

基础信息

  • 中国标准分类号（CCS）：H21
  • 国际标准分类号（ICS）：77.040
  • 标准类别：方法
  • 执行单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会
  • 发布日期：2021-08-20
  • 实施日期：2022-03-01
  • 主管部门：国家标准化管理委员会
  • 归口部门：国家标准化管理委员会

其它信息

  • 起草单位：主要起草单位 有研半导体材料有限公司 、山东有研半导体材料有限公司 、浙江金瑞泓科技股份有限公司 、优尼康科技有限公司 、中环领先半导体材料有限公司 、浙江海纳半导体有限公司 、麦斯克电子材料股份有限公司 、翌颖科技（上海）有限公司 、开化县检验检测研究院 。
  • 发布单位：国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会
  • 温馨提示：本系统所提供的电子文本仅供参考，请以正式标准出版物为准。

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